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三溫區(qū)真空氣氛回轉(zhuǎn)爐CVD系統(tǒng) 是集三溫區(qū)真空回轉(zhuǎn)爐、三路質(zhì)量流量計系統(tǒng)及低真空機組而成一種動態(tài)狀態(tài)下的化學氣相沉積系統(tǒng)。三溫區(qū)開啟式真空回轉(zhuǎn)管式爐采用雙層風冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。

（含預熱器）雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng) 雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫；PLC控制5路質(zhì)子流量器，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空。CVD（化學氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設(shè)備

LVU-10低真空系統(tǒng) 其極限真空度為10-1Pa， 內(nèi)部安裝有雙級旋片機械泵BSV-10配套使用，其接口為KF25，并配有真空連接管路一套，電阻真空計ZDR-I和連接管道接頭等。

MFC-5Z多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng) 是一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時，可將設(shè)備置于移動柜上以節(jié)約空間。

2通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)MFC-2Z 是一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時，可將設(shè)備置于移動柜上以節(jié)約空間。

LFM1200C-1微型箱式爐 是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質(zhì)量氧化鋁微晶體纖維材料，高溫度能達到1100℃，可連續(xù)工作1000℃，控溫精度±1℃；

LFM1400系列48L箱式爐是以硅碳棒為加熱元件、采用S型熱電偶和30段可編程溫度控制器。側(cè)開門結(jié)構(gòu)，方便客戶放取樣品；爐膛采用高質(zhì)量氧化鋁微晶體纖維材料，高溫度能達到1500℃，可連續(xù)工作1400℃，控溫精度±1℃；

LFT1200C小型真空管式爐 主要行業(yè)有稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造等行業(yè)進行真空燒結(jié)、氣氛保護燒結(jié)、真空鍍膜、CVD實驗、物質(zhì)成分測量等場合。